濺射靶材相信大家一定不陌生，它主要是在芯片、微電子、顯示屏等行業(yè)中應(yīng)用，特別是隨著電子信息行業(yè)的發(fā)展，對(duì)濺射靶材的需求也逐漸增加，濺射靶材也被更多人所了解，那么濺射靶材在使用過(guò)程中對(duì)性能有什么要求呢？下面小編來(lái)給大家介紹一下濺射靶材的性能要求。

　　濺射靶材的性能要求

　　一、純度

　　純度是濺射靶材的主要性能指標(biāo)，濺射靶材的純度對(duì)薄膜的性能影響是很大的，不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中，不同產(chǎn)品對(duì)靶材的純度要求也各不相同。就比如在微電子行業(yè)中，隨著行業(yè)的發(fā)展，硅片的尺寸硅片尺寸鑄件發(fā)展，而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，之前的靶材純度就可以滿足0.35umIC的工藝要求，但對(duì)于制備0.18um線條之前的靶材純度就無(wú)法勝任，需要要求純度為更高一些。

　　二、雜質(zhì)含量

　　濺射靶材中雜質(zhì)和氣孔中的氧氣以及水氣是靶材沉積薄膜的主要污染源，不同用途的靶材對(duì)于雜質(zhì)含量的要求也不同。在半導(dǎo)體行業(yè)中使用的純鋁和鋁合金靶材，對(duì)于堿金屬含量和放射量元素都有一定特殊的要求。

　　三、密度

　　為了減少濺射靶材中的氣孔數(shù)量，提高濺射薄膜的性能，對(duì)濺射靶材的密度也有一定的要求。因?yàn)闉R射靶材的密度會(huì)影響靶材的濺射數(shù)量，還會(huì)影響薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材的密度越高，薄膜的性能也就越好。不僅如此，提高靶材的密度和強(qiáng)度還能夠幫助靶材更好的承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力，因此密度也是濺射靶材的重要性能指標(biāo)之一。

　　四、結(jié)晶取向

　　濺射靶材在濺射的適合，靶材原子容易沿著原子六方中比較緊密排列方向擇優(yōu)濺射出來(lái)，因此為了提高靶材濺射速度，需要通過(guò)改變靶材結(jié)晶結(jié)構(gòu)的方法來(lái)增加濺射速度。對(duì)于不同的材料有著不同的結(jié)晶結(jié)構(gòu)，因此需要采取不同的成型方法、熱處理方法以及條件來(lái)提高靶材濺射效率和確保淀積薄膜的質(zhì)量。

　　以上就是給大家?guī)?lái)的有關(guān)濺射靶材的性能要求的全部介紹，希望對(duì)您有所幫助。濺射靶材的使用場(chǎng)景不同、用途不同，對(duì)于靶材的性能也有著不同的要求，豐聯(lián)科光電（洛陽(yáng)）股份有限公司生產(chǎn)的鎢靶材、銅靶材等各種靶材，可滿足您對(duì)靶材的使用需求，期待您的來(lái)電。