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硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的技術(shù)要求及性能要求

2022-04-13 00:00:00

硬質(zhì)涂層是通過氣相沉積法,在硬質(zhì)合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層,從而形成表面涂層硬質(zhì)合金,這種涂層材料耐磨性好,耐腐蝕,且耐高溫氧化,在切削刀具和耐磨零部件等機械加工行業(yè)中得到廣泛使用。在硬質(zhì)涂層沉積的時候,需要利用到鍍膜靶材來進行沉積,所以靶材能夠影響到硬質(zhì)涂層各方面的性能和使用效果。因此這就對硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的要求較高,下面我們就來一起看看硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的技術(shù)要求及性能要求是什么吧。
  

  一、硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材技術(shù)要求

  

  1、靶材純度

  
  靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大。靶材的純度越高,濺射薄膜的均勻性越好,性能越高。影響靶材純度的主要因素是雜質(zhì)含量,雜質(zhì)的來源廣泛,包括熔煉鑄造過程中的夾雜物和粉末原料中的氧氣和水等。靶材作為濺射中的陰極,固體中的雜質(zhì)和氣孔中的O2和H2O在沉積過程中,容易在薄膜表面形成熔滴和孔洞。
  

  2、致密度

  
  靶材的致密度不僅影響濺射時的沉積速率、濺射膜粒子的密度和放電現(xiàn)象等,還影響著濺射薄膜的物理和力學性能。靶材致密度越高,濺射膜粒子的密度越低,放電現(xiàn)象越弱,薄膜的性能也越好;致密度低的靶材在濺射過程中,存在于靶材孔隙中的氣體突然釋放,造成大尺寸的材料顆?;蛭⒘ow濺,或在成膜之后薄膜受到二次電子的轟擊產(chǎn)生微粒,這些微粒的出現(xiàn)將嚴重影響硬質(zhì)涂層質(zhì)量。

  

  3、成分與結(jié)構(gòu)均勻性

  
  成分與結(jié)構(gòu)均勻性是考察靶材質(zhì)量的重要指標之一。對于復相結(jié)構(gòu)的合金靶材和混合靶材,不僅要求成分的均勻性,還要求組織結(jié)構(gòu)的均勻性。只有靶材的成分和結(jié)構(gòu)均勻,在后期鍍膜過程中才能均勻地濺射在基體上;如果均勻性不好,沉積出來的薄膜均勻性也會受到影響,容易出現(xiàn)孔洞、間隙、凸起等缺陷。
  

  4、晶粒尺寸和取向

  
  靶材的晶粒尺寸越細小,沉積的薄膜厚度分布越均勻,濺射速率越快。在靶材的濺射沉積鍍膜過程中發(fā)現(xiàn),合金靶材具有擇優(yōu)濺射現(xiàn)象,這嚴重影響到薄膜的化學組成,因此控制合金靶材中的晶粒取向顯得尤為重要。
  

  5、幾何形狀與尺寸

  
  主要體現(xiàn)在加工精度和質(zhì)量方面,如表面粗糙度和平整度等。檢查靶材表面有無開裂、縮孔和難熔不熔物等。靶材對表面質(zhì)量的控制極為嚴格,表面質(zhì)量缺陷對后續(xù)的濺射鍍膜均勻性影響很大。
  

  二、硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材性能要求

  
  硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的性能要求主要是對濺射靶材的熱導率、電導率和熱膨脹系數(shù)的要求。因濺射導致靶材的溫度升高,熱導率越高熱量傳遞的越快,靶材離子的蒸發(fā)效果越好,沉積效率越高;靶材與基材的熱膨脹系數(shù)的差值越小越好,借以減小熱應力的影響。
  
  綜上,硬質(zhì)涂層用鍍膜靶材的技術(shù)要求包括靶材的純度、致密度、成分與結(jié)構(gòu)均勻性等;性能要求主要是對濺射靶材的熱導率、電導率和熱膨脹系數(shù)的要求。四豐電子材料是一家高純靶材的生產(chǎn)公司,靶材組織結(jié)構(gòu)均勻細小、性能穩(wěn)定一致,年產(chǎn)靶材1000噸,如果您有需要,歡迎聯(lián)系四豐詳詢!


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